[新聞] ASML:EUV產能飆到2025年 4檔受注目
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原文標題:ASML:EUV產能飆到2025年 4檔受注目
(請勿刪減原文標題)
原文連結:https://ctee.com.tw/news/stocks/535148.html
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發布時間:2021.10.21
(請以原文網頁/報紙之發布時間為準)
原文內容:
微影設備大廠艾司摩爾(ASML)20日召開法人說明會,預期邏輯製程及DRAM製程將加速導
入極紫外光(EUV)微影技術,2022年EUV曝光機年產能將提升至55台,全球EUV產能進入
成長爆發階段,並且將一路創新高到2025年。
法人看好家登、帆宣、公準、意德士等EUV概念股營運同步看旺到2025年。
ASML公告第三季合併營收達52.41億歐元,毛利率達51.7%,營業利益率36.6%,稅後淨
利17.40億歐元,每股淨利4.27歐元,符合市場預期。第三季新增訂單達62億歐元,其中
29億歐元為0.33數值孔徑EUV曝光機訂單。ASML預期第四季營收介於49~52億歐元,並達
成2021年營收較去年成長35%目標。
ASML執行長Peter Wennink指出,新冠肺炎疫情持續加速數位轉型,為解決晶片缺貨問題
,IDM廠、晶圓代工廠、記憶體廠均擴大投資提高產能,且投資項目聚集在先進製程產能
,進一步推動邏輯IC及DRAM的EUV設備強勁需求。ASML今年EUV設備產能約達45~50台且供
不應求,明年預期將提高至55台,且都將用於生產效率提升15%的新一代NXE: 3600D曝光
機,新機台在客戶晶圓廠每小時曝光產量(throughput)已達160片。
根據ASML召開分析師會議中資料,隨著邏輯IC製程明年跨入3奈米世代,DRAM製程微縮至
14奈米以下,單片晶圓EUV曝光光罩層數正在快速提升,ASML預估先進邏輯製程晶圓2021
年EUV曝光層數平均已逾10層,至2023年將增加到逾20層,EUV曝光機台未來幾年都會供不
應求,EUV概念股營運看旺。
設備業者指出,台積電明、後兩年會有5奈米及3奈米晶圓廠陸續進入量產,成為全球擁有
最大EUV產能的半導體廠,至於英特爾、三星、SK海力士、美光等也開始積極擴建EUV產能
,對於極紫外光光罩盒(EUV Pod)及晶圓傳送盒採購量會大增,家登已獲台灣、美國、
韓國等大廠訂單,營運成長動能持續增溫。
由於ASML的EUV曝光機訂單一路滿到2025年,打進EUV曝光機零組件供應鏈的帆宣、公準、
意德士等直接受惠。
其中,帆宣與ASML合作多年,並承接EUV雷射穩壓模組代工訂單,公準爭擠身精密零組件
供應商,意德士是EUV機台晶圓真空吸盤供應商。
心得/評論: ※必需填寫滿20字
雖然因缺料影響財測導致ASML股價小小修正了4%
但是未來趨勢就在那邊
全球EUV產能進入成長爆發階段
並且將一路創新高到2025年
相關個股拉回可以多做留意
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