[新聞] 韓國企業發力EUV光刻技術 專利申請量佔上風
1.原文連結:
https://www.cnbeta.com/articles/tech/1054041.htm
2.原文內容:
韓國企業發力EUV光刻技術 專利申請量佔上風
援引韓媒 BusinessKorea 報導,以三星為代表的韓國企業在 EUV 光刻技術方面取得了極
大進展。根據對韓國知識產權局(KIPO)過去十年(2011-2020)的 EUV 相關專利統計,
在 2014 年達到 88 項的頂峰,2018 年為 55 項,2019 年為 50 項。
特別需要注意的是,韓國企業在 EUV 光刻技術上一直不斷縮和國外企業之間的差距。在
韓國知識產權局 2019 年收錄的 50 項專利中,其中 40 項是由韓國人提交的,只有 10
項是外國人提交的。這也是韓國人提交的專利首次超過外國人。到 2020 年,韓國提交的
申請也將是外國人申請的兩倍以上。
EUV 光刻技術整合到多種先進技術,包括多層反射鏡、多層膜、防護膜、光源等等。在過
去十年裡,包括三星電子在內的全球公司進行了深入的研究和開發,以確保技術領先。最
近,代工公司開始使用 5 納米 EUV 光刻技術來生產智能手機的應用處理器(AP)。
如果按照公司劃分,前六家公司佔到總專利申請量的 59%。其中卡爾蔡司(德國)佔18%
,三星電子(韓國)佔15%,ASML(荷蘭)佔11%,S&S Tech(韓國)佔8%,台積電(
台灣)為6%,SK海力士(韓國)為1%。
如果按照詳細的技術項目來劃分,處理技術(process technology)的專利申請量佔32%
;曝光設備技術(exposure device technology)的專利申請量佔31%;膜技術(mask
technology)佔比為 28%,其他為 9%。
在工藝技術領域,三星電子佔39%,台積電佔15%,這意味著兩家公司佔54%。在膜領域
,S&S Tech佔28%,Hoya(日本)佔15%,Hanyang University(韓國)佔10%,
Asahi Glass(日本)佔10%,三星電子佔9%。
3.心得/評論:
沒想到EUV專利申請量韓國佔比那麼高
然後三星在EUV每個領域的專利佔比都不小
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 114.24.96.252 (臺灣)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Stock/M.1605520025.A.109.html
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