[問題] PEALD機台

看板Physics作者kurtgod (kurt神)時間8年前 (2017/07/04 16:54)推噓1(1推 0噓 7→)

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這問題感覺是發在物理版較適合XD 目前服務的公司客戶有個需求要鍍Al2O3的film去做封裝我問了為什麼不用公司現有的PECVD或是ALD就好(RD就說PEALD較佳) 公司目前的PEALD也還沒組出來所以只能委託實驗室或研究機構代工條件如下厚度約20~40nm 製程溫度需控制在80-100度C 有問過成大光電的老師他的PEALD是200~300度C之間目前有查到台大材料陳敏璋教授有這設備但還沒詢問不知有沒有對這機台了解的板友知道哪個學術機構有這設備可代工? 以上感謝版友回答 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 59.127.26.186 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Physics/M.1499158441.A.D20.html

推

boson5566

07/04 22:29, , 1^F

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hank780420

07/05 18:05, , 2^F

07/05 18:05, 2^F

陳的溫度也是這麼高喔？問個蠢問題溫度不是可以自行控制嗎？ NDL只有ALD...... 我朋友說他們公司有但是是TSMC.....來亂的..... ※ 編輯: kurtgod (42.77.213.162), 07/05/2017 19:17:46

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boson5566

07/05 21:36, , 3^F