[問題] 濺鍍時靶材溫度
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不知道要在哪個版問所以到這裡問
一般直流磁控濺鍍時,靶材會因為被離子轟擊而升溫,所以需要再靶材後方通冷卻水冷卻
,那一般而言有通冷卻水的濺鍍系統的靶材在濺鍍時溫度大約多少呢?
不是問基板的溫度,查了半天都是基板溫度的文章
謝謝~
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 140.114.235.65
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Physics/M.1438623108.A.289.html
※ 編輯: Absolitude (140.114.235.65), 08/04/2015 01:37:01
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08/04 09:03, , 2F
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謝謝^^
後來有查到一些表面溫度的文章,好像幾百到上千度都有,內部可能不太好找
※ 編輯: Absolitude (140.114.235.65), 08/04/2015 10:43:29
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08/04 23:16, , 3F
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