[閒聊] 化合物之生成熱 (跪求高手)

看板Physics作者 (放肆搖滾)時間15年前 (2010/10/21 16:42), 編輯推噓0(0推 0噓 1→)
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在看paper時，SiGe 這材料在氧化時 因為SiO2與GeO2的生成熱差距很大 (SiO2:204 kcal/mol、GeO2:114 kcal/mol) 所以Si較容易起反應 問過朋友是說因為 SiO2 較為穩定 所以Si會先與氧原子形成二氧化矽 這個解釋我不是很懂，有沒有其他解釋比較能夠說明是什麼原因造成 Si 會先起反應呢 拜託了 QQ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.115.72.46
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系統傾向反應至低能態. 即便產生GeO2,隨後也會和Si反應
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