[情報] 2016年10nm節點啟用EUV製程,Intel搶頭香
Intel今年已經開始量產14nm製程,下一代製程將是10nm,Intel原本計劃在2015年底開始
投產10nm製程。隨著半導體製程進入10nm內,新一代EUV光刻設備也愈加重要,這還要看
荷蘭ASML公司的研發進度了。日前該公司公佈了Q3財報,其中提到他們將在2016年10nm製
程節點上正式啟用EUV光刻製程,首個客戶普遍認為是Intel公司。
2016年10nm節點啟用EUV製程,Intel搶頭香
http://i.imgur.com/LpPRxZp.png
荷蘭ASML公司是全球最大的半導體裝備製造公司,他們兩年前推出了試驗型EUV光刻設備
NXE:3100,量產型則是NEX:3300B,該設備每天的晶圓產能已經達到了500片,不過這個產
能跟當初提到的每小時70片晶圓相差還是很多。ASML還提到了他們正在跟一個客戶合作,
準備在2016年的10nm中期節點安裝EUV光刻設備,這意味著兩年後的10nm節點上我們會正
式迎來EUV製程,談論了多年的技術終於開始量產了。
ASML並沒有公佈這個客戶的名字,不過業界普遍認為這是Intel公司,Intel不僅是ASML公
司的大客戶,也是大股東之一,2012年投資41億美元獲得了ASML公司15%的股份,對推動
EUV光刻製程也是最積極的,當然,Intel也是最有實力和財力的,首先應用EUV製程並不
意外。
備註:
AMD表示:
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