[問題] 玻璃蝕刻製成問題

看板NEMS作者 (fish)時間6年前 (2018/03/23 18:11), 編輯推噓3(3推 0噓 2→)
留言5則, 2人參與, 6年前最新討論串1/1
大家好 小弟第一次作玻璃蝕刻製程失敗 有問題想問各位大神 以下是我的製程 我的基本是24*50mm的玻璃蓋玻片 光罩主流道寬500Micrometer 中間尖端流道為5Micrometer 大概長這樣 [==><==] 清洗基板 丙酮+超音波震盪5分鐘 DIwater超音波震盪5分鐘 異丙醇+超音波震盪5分鐘 DIwater超音波震盪5分鐘 氧電漿在清洗一次 旋塗HMDS(我是用六甲基二硅烷) 旋塗HMDS 烤60度 5分鐘 等冷卻 旋塗S1813 厚度約1.3Micrometer，烤60度 5分鐘 曝光365nm 24秒 我用MP351顯影 有和DIwater 1:3 顯影30秒 最後用BOE(6:1)吃 做 2 4 6 8 10分鐘做 蝕刻速率表 最後清洗晶片時 用丙酮+超音波震盪 發現光阻很快就溶於丙酮內 BOE吃10分鐘深度才1.3um 然後有板上說 他們用HMDS 90度1分鐘 S1813 115度 60秒 OR 105度 120秒 是否是因為我S1813在烤時溫度不夠而影響最後結果 小弟跪求大神解惑 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 140.130.20.35 ※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/NEMS/M.1521799913.A.5BF.html
推
03/23 19:00, 6年前 , 1F
雖然不懂這個 但蝕刻速率跟光阻烤溫沒關西
03/23 19:00, 1F
推
03/23 19:02, 6年前 , 2F
只跟蝕刻溶液濃度 與溫度比較有關
03/23 19:02, 2F
→
03/23 19:04, 6年前 , 3F
跟光阻有關就代表你光阻沒顯開
03/23 19:04, 3F
→
03/23 20:07, 6年前 , 4F
另一個可能 你未含水蝕刻一開始有氣泡阻擋蝕刻
03/23 20:07, 4F
推
04/06 13:18, 6年前 , 5F
一般吃玻璃要用a-Si or Cr Au擋 或你用RIE硬敲也可
04/06 13:18, 5F
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