[問題] BCB負光阻顯不乾淨
我在測試顯影一支BCB-4024的負光阻,
希望能做出20um厚度,並顯出洞,
未來當作passivation用,
先用Si基板上第一層BCB並顯影出洞,
第1層recipe為:
1.coating 1500rpm, 60 sec
2.軟烤 80度, 6 min
3.曝光 22 sec (220 mJ)
4.曝後烤 75度, 6 min
5.DS3000中浸泡並用震盪器震顯(顯影液溫度35度)
6.放入氮氣箱中無氧烘烤210度,40分
然後再上第2層BCB並顯影出較第一層大點的洞
第2層recipe為
1.coating 1500rpm, 60 sec
2.軟烤 85度, 4 min
3.曝光 26 sec (260 mJ)
4.曝後烤 70度, 6 min
5.DS3000浸泡手搖顯影(顯影液溫度35度)
現在還再調整第2層的recipe,
第2層不管怎麼調都很容易裂開,
所以不能用震盪器去顯影,
不然很容易洞周圍掀起來,
但是用手搖顯影容易顯不乾淨有殘渣,
如圖所示：
http://imgur.com/tN1GvGT
左一洞為顯乾淨， 其餘皆有些微殘渣,
有時候不乾淨再加顯,
反而會更多殘渣,
這支顯影液有點黏性,
常要氮氣槍吹很久才會看到底部,
Q1:
不知道什麼有效方法能顯乾淨,
還是說recipe需要調整?
Q2:
看板上其他負光阻(EX: SU8)都不會過顯,
但我發現我這支BCB會過顯並在洞周圍塌陷,
BCB調整好是否也不會有過顯問題?
我是第一次用BCB這支光阻,
顯影難度蠻高且沒聽過有人用過,
希望有使用過這光阻的板友能分享經驗,謝謝!
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