[問題] PDMS孔膜製作問題

看板NEMS作者 (我心因何惱春風)時間11年前 (2012/12/04 01:23), 編輯推噓4(4推 0噓 5→)
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研究需要用到上面有許多微米孔洞的PDMS薄膜，但是似乎不太好做。 參考了一些PAPER，有的是用RIE的方式 CF4或SF6 300W ~ 500W 暴力轟穿， 有的則是用SU8柱子翻模之後，再把上面殘留的一層PDMS用RIE轟掉... 不知道有沒有人做過類似的東西? 有經驗能分享嗎? 0.0 -- 用翻模的好像都會殘留一層屋頂，用RIE又都貴到飛天.... Orz -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.114.108.222
推
12/04 05:33, , 1F
壓重一點...
12/04 05:33, 1F
推
12/04 15:30, , 2F
可以參考我學長的文章 the network formation assay: a
12/04 15:30, 2F
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12/04 15:31, , 3F
spatially standardized neurite outgrowth analytical
12/04 15:31, 3F
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12/04 15:33, , 4F
display for neurotoxicity screening" Jean-Philippe的文章
12/04 15:33, 4F
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12/04 15:35, , 5F
大概~40nm厚 孔洞可以自行定義型狀
12/04 15:35, 5F
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12/04 16:24, , 6F
嗯,我們是想在厚10~30um的PDMS上作出大量的5um直徑穿孔 @@
12/04 16:24, 6F
※ 編輯: czchen 來自: 140.114.108.222 (12/04 16:26)
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12/05 01:14, , 7F
我們實驗室在MEMS2013年有一個6um厚度30um PDMS的paper
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推
12/05 01:14, , 8F
不過6um的洞不是那篇的最主要重點....
12/05 01:14, 8F
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12/05 05:11, , 9F
請問樓上，我能去哪邊找到這篇文章或先前的研究參考嗎?QQ
12/05 05:11, 9F
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