[問題] 多層SU-8
各問先進大家好
晚輩的目的是製備管路高度不同的微流體通道
在製備多層SU-8當作模板時
有遇到一些問題希望可以參考學長們的經驗與建議
主要問題是
塗布上第二層光阻劑後
用第二片mask準備做第二次曝光
在對齊mask上的標記和wafer上第一層的圖案時
第一層幾乎只看的到類似陰影的形狀
無法對焦清楚
在對齊上有困難
該機台是使用10倍物鏡
但在其他顯微鏡看的到第一層的圖形
材料是SU-8 2010
步驟
第一層高度是10um
3500rpm 30秒 軟烤95度3分鐘 曝光8秒 曝光後烤95度4分鐘
塗布第二層目標15um
1500rpm 25秒 軟烤95度8分鐘 曝光10秒 曝光後烤95度10分鐘
最後顯影
因為第一次接觸黃光製成 所以在一些關鍵字文章搜尋 不是很了解
希望前輩們能指點迷津
謝謝
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
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07/17 21:51, , 1F
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