[問題] 薄型光阻.PMMA

看板NEMS作者 (楓兒)時間12年前 (2012/06/30 20:39), 編輯推噓1(1推 0噓 1→)
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現在正在使用奈米壓印 結構為100nm直徑 深度100nm 所使用的是TU2-120的UV型光阻 因為之後要lift off 所以會在基板(ZnO)和壓印光阻TU2-120之間在上一層可以使用丙酮或非酸鹼溶液洗掉的 lift off 層 之前基板是GaN時都是用SiO2當lift off層 可以用BOE洗掉 但現在因為基板怕酸鹼 所以要改這層的材料 目前想到的就是SU8 以及PMMA 聽學長說SU8可以稀釋到100~500nm 而PMMA目前還在查資料 希望有強者版友可以協助>"< 謝謝! -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.112.4.195
推
07/04 11:23, , 1F
MicroChem網站上就有資料了
07/04 11:23, 1F
→
07/29 22:15, , 2F
SU8 2000.5
07/29 22:15, 2F
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