[問題] 鍍 silicon oxide 的問題

看板NEMS作者 (彈珠汽水)時間14年前 (2009/10/16 00:22), 編輯推噓5(5推 0噓 10→)
留言15則, 6人參與, 最新討論串1/1
我想鍍一層oxide 在有nickel pattern的glass上 想問一下這樣是否鍍的上去? 鍍上去後要如何判斷有鍍上去? 我目前是要在有nickel pattern的地方用pulse laser去打 但是鍍上一層oxide之後laser一打 會有部分 nikel pattern掉落 不禁讓我懷疑我oxide根本沒有鍍上去... 所以請教各位了... -- 把相簿放在簽名檔裡面。。。。是投資。是投資。是投資 不要點～不要點～不要點～ ＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿ 　 都跟你說"是投資"了還點 你是種花職棒的總教練嗎= = -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 76.87.91.46
推
10/16 03:33, , 1F
Nickel電鍍在Glass上面,Seedlayer是Ti/Au,做完就容易掉
10/16 03:33, 1F
→
10/16 03:35, , 2F
原PO有遇過嗎?!還有oxide應該不是PECVD，是e-gun???
10/16 03:35, 2F
→
10/16 03:36, , 3F
鍍!? 這動詞真酷○rz
10/16 03:36, 3F
→
10/16 11:46, , 4F
oxide 是用PECVD沒錯... Nickel 沒有用任何附著層...
10/16 11:46, 4F
→
10/16 11:46, , 5F
不會掉...
10/16 11:46, 5F
→
10/16 11:47, , 6F
忘了講 Nickel 是用 e-beam 鍍上去的....
10/16 11:47, 6F
推
10/16 12:10, , 7F
其實oxide 也可以用e-gun 鍍.....
10/16 12:10, 7F
→
10/16 12:29, , 8F
我用PECVD鍍很快...所以用PECVD鍍...
10/16 12:29, 8F
推
10/16 12:53, , 9F
用三用電表量阻值
10/16 12:53, 9F
→
10/17 04:35, , 10F
聽起來是好方法....!!! 還有其他的嘛?
10/17 04:35, 10F
→
10/17 04:36, , 11F
因為我的Ni 是非常小的pattern 難量 不然我就要重弄一大片
10/17 04:36, 11F
推
11/03 19:51, , 12F
可以考慮連空片都一起下去長，空片有長到，另一應也有
11/03 19:51, 12F
→
11/04 11:08, , 13F
我有放Si破片當reference 但是我得base是glass....怕不一樣
11/04 11:08, 13F
→
11/04 20:43, , 14F
那就放GLASS當REF啊= =
11/04 20:43, 14F
推
11/13 11:34, , 15F
如果用glass當ref的話，還要能有辦法判斷有沒有鍍到
11/13 11:34, 15F
‣ 更多 s75287 的文章
文章代碼(AID): #1ArqnQbb (NEMS)