[討論] 關於ALD原子層堆積法的問題
不知道在這邊的各位大大有沒有人使用過原子層堆積的裝置
我用ALD堆積hfo2 150cy在矽片上方
出來的結果如下圖
https://i.imgur.com/B9dxAiW.jpg
感覺堆積厚度很不平均
(應該說整個就是怪怪的
不知道奇怪的顏色分佈那邊是什麼...)
有人遇過一樣的問題或知道什麼改善方法嗎?
考慮到的可能性是溫度沒設定好(試料台設定275度
但是用紅外線攝影機看的時候加熱後溫差分佈狀況雖然有一點不一樣但是整體還算溫度差
不多)
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 130.34.95.35 (日本)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/Mechanical/M.1573635575.A.405.html
推
11/13 17:58,
4年前
, 1F
11/13 17:58, 1F
推
11/13 18:05,
4年前
, 2F
11/13 18:05, 2F
→
11/13 18:18,
4年前
, 3F
11/13 18:18, 3F
→
11/13 18:18,
4年前
, 4F
11/13 18:18, 4F
→
11/13 18:18,
4年前
, 5F
11/13 18:18, 5F
→
11/13 18:20,
4年前
, 6F
11/13 18:20, 6F
→
11/15 09:51,
4年前
, 7F
11/15 09:51, 7F
→
11/15 09:52,
4年前
, 8F
11/15 09:52, 8F
推
11/18 23:02,
4年前
, 9F
11/18 23:02, 9F
推
11/21 23:35,
4年前
, 10F
11/21 23:35, 10F
→
11/21 23:35,
4年前
, 11F
11/21 23:35, 11F
→
11/21 23:35,
4年前
, 12F
11/21 23:35, 12F
→
11/21 23:35,
4年前
, 13F
11/21 23:35, 13F
→
11/21 23:35,
4年前
, 14F
11/21 23:35, 14F