Fw: [材料] 關於XPS的峰值校正問題!!
※ [本文轉錄自 ChemEng 看板 #1HXe5Hvv ]
作者: grayalien01 (怕冷企鵝) 看板: ChemEng
標題: [材料] 關於XPS的峰值校正問題!!
時間: Sun May 5 23:57:02 2013
如題
最近嘗試要把送樣的XPS試片數據fitting峰值
(樣品為氮化鋯、氮氧化鋯、氧化鋯等薄膜)
我去查了一下，好像fitting之前要做校正
我的試片有先做Ar預濺擊約5分鐘，所以應該是用Ar峰值做校正(242 eV)
比方說試片(一)
我去查了一下數據，Ar的高解析能譜圖，XPS管理員幫我簡易估了一下大概是242.612 eV
(所以我全部的數據的能峰值照理說都要減掉0.612 eV)
可是當做完校正後(扣完0.612後)，我發現試片(一)的圖要fitting時反而變得很詭異
所fitting出來的能峰值都跟文獻差的更遠，不校正好像還比較接近文獻值= =
(如果不要校正fitting出來的峰值位置還比較接近我搜尋的文獻)
我嘗試過把Ar本身的能譜圖拿出來fitting，想說管理員粗估可能會不准
結果一fitting出來是243.25，偏了1.25 eV更多= =|||
(Ar我只放一根peak去fitting，雖然是用Ar濺擊，但其實Ar的高解析能譜圖強度也不高)
(Ar的高解析能譜的圖很粗糙(rough)，可以看到很多鋸齒)
所以...到底是...
(1)現在我是不是乾脆都不要校正直接fitting好像還比較好...= =
(2)改用碳(C 284.6 eV)去校正，可是都預濺擊過了用C校正會準嗎??
(3)我校正方式錯了
(4)文獻一堆人根本也忘了校正就fitting了??
懇求各位高手幫忙了~QQ
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※ 轉錄者: grayalien01 (140.120.135.244), 時間: 05/06/2013 11:44:24