[請益] 濺鍍Al nano-film

看板Master_D作者 (nikenike)時間16年前 (2008/04/26 19:15), 編輯推噓1(1推 0噓 1→)
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最近濺鍍 Al 的 nano-film-------> 50nm~10nm 碰到的問題!!!!! 請問對濺鍍機(sputter)很熟的高手 我是使用 RF濺鍍 DC-Bias C-T (C-Tune) C-L(C-Load) 三者之間有什麼關係??? 尤其對活性較強的金屬--Al 謝謝!!! ~~~~感恩~~~~~ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 218.32.241.162
推
04/26 20:36, , 1F
我只記得C-T和C-L是為了降低阻抗 濺鍍效率會比較好@@
04/26 20:36, 1F
→
10/05 19:33, , 2F
希望對您有幫助 http://go2.tw/goz
10/05 19:33, 2F
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