[閒聊] EUV光刻取得突破 清華大學開發新型光阻
https://udn.com/news/story/7331/8897788
北京清華大學宣布,該校化學系許華平教授團隊在EUV(極紫外光)光刻材料上取得重大突
破,開發出一種基於聚碲氧烷(Polytelluoxane, PTeO)的新型光阻劑,為先進半導體製造
關鍵材料提供新的設計策略。相關研究成果已於16日發表於期刊《科學前緣》(Science Ad
vances)。
光阻劑好像都買日本的
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把煙吸到肺裡,而黑色的肺就是自己的「業障」。
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推
07/27 10:47,
4月前
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