[討論] 希望荷蘭Asml 能守好euv 曝光機的秘密
目前美中科技戰,我覺得中國最難克服的是euv 曝光機,和日本的光刻膠。
尤其是euv 曝光機,我覺得中國如果沒有用偷的,至少2028年以前絕對做不出來!
甚至很可能更久!
因為中國連一台euv 曝光機都沒有,想仿制很難,中國之前又完全沒有研究。
日本光刻膠還簡單一點。
台灣制程方面很被中國挖角人才。
當然越多步驟被卡脖子,越少人敢明目張膽幫中國!
希望荷蘭asml 能守住秘密!
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