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討論串[問題] Ring oscillator 在不同 Process Corne …
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#3
Re: [問題] Ring oscillator 在不同 Process Corne …
推噓4(4推 0噓 2→)留言6則，0人參與, 最新作者deathcustom時間16年前 (2009/05/19 22:32), 編輯資訊
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const-gm. 這在Wiens-Bridge Osc上有用（這兩三年有一篇就是用此法）. 那篇達到的是over all temperature range 0.8% variation. bandgap ref. 限流法，使充放電用的電流接近固定. 但是此法在接近充（放）完電時，還是由u來決定電
(還有539個字)
#2
Re: [問題] Ring oscillator 在不同 Process Corne …
推噓0(0推 0噓 0→)留言0則，0人參與, 最新作者circularssk (想一輩子被妳跟)時間16年前 (2009/05/19 22:18), 編輯資訊
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應該要參考 類似constant-gm biasing . bandgap ref. 類似這種抗溫度電路當你的電路偏壓source 似乎才有解,(當然怎用要看自己巧思). 或者是 "autotuning" (自己去IEEE查吧). 此進階技巧可以免除溫度與製程變異,. 目前有PLL與MIXING M
#1
Re: [問題] Ring oscillator 在不同 Process Corne …
推噓0(0推 0噓 0→)留言0則，0人參與, 最新作者deathcustom時間16年前 (2009/05/19 20:30), 編輯資訊
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Inverter Chain. f = 1/(2*N*Td). Td 的公式在Smith上面有. 跟K、C有關. 如果你用的是MIM cap. 以TSMC 0.18um為例. 他的溫度係數大約是 -52ppm/degree. 至於K跟溫度的關係. K = U*Cox*(W/L). U = U_0*(
(還有391個字)
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