
[問題] Channel-stop 問題

小弟不懂的點是
為何ion implantation可以處理漏電流問題
我們知道說兩個n+和FOX區
假如FOX上面有連接線(提供大電壓)
電晶體會稍微被打開(FOX下面產生反轉層)
用ion-implantation取代掉FOX(在氧化前)竟然就可以解決漏電流問題?
ion-implantation後的區域是低電阻(這樣漏電流不是更多嗎)
希望有大大可以解惑QQ
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我4manu鐵粉 manu魂不滅
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推
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