[問題] MOCVD的加熱技術

看板Electronics作者 (t5d)時間13年前 (2011/11/10 12:44), 編輯推噓1(101)
留言2則, 1人參與, 最新討論串1/1
想請問一下 有機金屬化學氣相沉積法(metal organic chemical-vapor deposition, MOCVD) 此技術中 用來加熱晶圓的加熱方式是哪種呢? 我自己查到的相關資料以及在別版問到的答案都是高頻的感應加熱 線圈通過電流 以電磁感應產生渦電流 再經過skin effect等使表面溫度急速上升..等 查到的都是類似這樣的加熱技術 可是我們老師卻認為只是一般的電阻式加熱 不用到感應加熱什麼的這麼麻煩 不過我猜可能是各種加熱的方式都能用? 可能只在效率或是可作用範圍的差別而已? 是嗎? 想問這兩種可作用的溫度範圍分別落在哪? 差異有很大嗎? 又現今比較主流的加熱方式是哪種呢? 其他還有更多不同且常用的方式嗎? 謝謝 -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.113.149.16

11/10 13:51, , 1F
是的...但溫度均不均勻及溫度控制就很重要~舊型的是用
11/10 13:51, 1F

11/10 13:52, , 2F
有的用IR lamp
11/10 13:52, 2F
文章代碼(AID): #1EkrQy66 (Electronics)