[問題] 有關閘極氧化層之蝕刻

看板Electronics作者 (小又乖乖我去上課)時間20年前 (2006/01/05 11:03), 編輯推噓0(0推 0噓 0→)
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想請問一下在一般電漿蝕刻閘極氧化層時 由於蝕刻率不均所以造成其氧化層未能均勻移除乾淨 這些未能移除完全的部分大概有多厚? 或是所能容許的程度大概是多少? 那在蝕刻製程中要怎麼判斷有無移除完全呢? 知道的人可以告訴我嗎? 謝謝~~ -- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.114.120.222
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