[製程] 銀蝕刻液問題消失
版上各位好:
如標題最近需要在wafer上先沉積銀粒子
然後再利用銀蝕刻液去進行蝕刻將銀粒子蝕刻
預計是將銀粒子變小但不至於不見
但是又怕濃度過高 wafer一放進溶液銀粒子就消失
目前也找不到相關的paper 想請問神人們知道一些關於銀蝕刻液速率
或是相關研究嗎??
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