[材料] PECVD鍍膜不成功原因?
小弟最近在使用PECVD進行類鑽碳DLC的鍍膜
使用氣體: CH4
Power supply : DC
由於高抽幫浦壞掉
故只能使用初抽幫浦進行抽真空
以往的靠初抽真空度可以到達 16 mtorr左右
現在只能抽到 34 mtorr
而通入CH4後 穩定在83 mtorr
有使用CH4通入至300 mtorr up ，再行抽真空
將氣氛洗淨
問題在
提供電源後，電漿有出現而試片表面卻無鍍膜出現
請各位大大幫忙隔空抓藥，幫忙想想問題出在哪
拜託各位了
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