[問題] XRD

看板ChemEng作者 (自由山丘上的春樹)時間12年前 (2013/12/28 15:46), 編輯推噓1(104)
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最近在做一個實驗 蒙脫土高分子複合材料 主要是先將蒙脫土粉末浸泡在水或酒精中使其膨潤 之後加入插層劑(四級銨鹽)共同強攪拌 原理是希望大分子插層劑與蒙脫土中的K+置換 藉此撐開蒙脫土的層板結構 之後烘乾磨粉 此時要去打一次XRD 與 未插層的MMT(僅含K+)的XRD相互做比較 想請問一下 XRD的Y軸 intensity應有何變化 peak變高或變低? 理想上晶體間的間距變大了 peak會變高還是變低? 小蛇的老師說都沒peak或很小才算成功 另外 插層後的蒙托土還要再跟PEO2000混摻 這次不是插層 而是"脫層" 理想上好像是希望PEO能讓蒙托土變成amorphous 我的理解是將晶面間距撐大到變成非晶型的樣子 如果是這樣 peak又該如何變化呢? 另外還想問一下 粉末的size大概在哪個範圍內打XRD較適合呢? 再小一點是不是要用TEM了? 因為問題有點長 詳細解答者 站內500P 感謝! 急! --

06/08 01:23,
樓下你猜marklin的雞雞等下會怎麼樣?
06/08 01:23

06/08 01:23,
========================會爆==========================
06/08 01:23
-- ※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 140.116.112.101

12/29 19:26, , 1F
插層峰的位置會往低角度移動
12/29 19:26, 1F

12/29 19:27, , 2F
脫層 就是沒有峰出現 要附上TEM顯示clay
12/29 19:27, 2F

12/29 19:27, , 3F
是散亂的
12/29 19:27, 3F

12/29 19:28, , 4F
不過你的PEO2000 應該是水溶性高分子
12/29 19:28, 4F

12/29 19:28, , 5F
去練個冷凍切片吧 不然沒辦法做TEM試片
12/29 19:28, 5F
文章代碼(AID): #1Ile7Iul (ChemEng)